一回路冷却剂中活性硅测量干扰因素的消除  

作　　者：陈奕峥 

机构地区：[1]三门核电有限公司,浙江台州318000

出　　处：《大众标准化》2022年第1期178-180,共3页Popular Standardization

摘　　要：活性硅是加锌核电站一回路冷却剂的控制参数,三门核电化学采用硅钼蓝分光光度法对活性硅的浓度进行检测。由于冷却剂中添加了化学品,增大了分光光度法的吸收背景,影响了该方法对于活性硅测量的准确性。通过对冷却剂中干扰因素进行排查验证,确认氢氧化锂为主要干扰因素,并通过基体匹配法消除了干扰因素,方法回收率可达97.3%~99.8%。

关 键 词：活性硅 硅钼蓝分光光度法 冷却剂 锂 

分 类 号：TM623[电气工程—电力系统及自动化]