检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
出 处:《装备制造技术》2022年第2期178-180,191,共4页Equipment Manufacturing Technology
摘 要:光成像工艺是PCB生产过程的关键控制点,同时也是技术难点。通过对X公司5月份PCB生产不良品有关数据的统计分析,发现光成像工艺的产品不良率较高。采用过程失效模式和后果分析(PFMEA)方法探究光成像工艺产品产生缺陷的原因,并针对潜在失效的起因提出改进措施。最后验证了改进措施的有效性。最终结果表明,改进后各工序失效模式的风险顺序数都有了不同程度的降低,光成像工艺产品不良率由改进前的0.95%降为0.53%,产品的生产过程质量得到了有效的控制。
分 类 号:TN41[电子电信—微电子学与固体电子学]
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