ICP-OES测定高铝铝锰铁中P、Si、Cu含量  

作　　者：伍绍双 

机构地区：[1]阳春新钢铁有限责任公司,广东 阳春 529600

出　　处：《中文科技期刊数据库(引文版)工程技术》2015年第10期00025-00026,共2页

摘　　要：应用以检测器CCD高频电感耦合等离子体光谱仪,采用以标准溶液基体匹配校正法,直接同时测定高铝铝锰铁合金中微量杂质元紊Si,P,CU。试验了基体元素相互之间以及基体元素对微量杂质元素的干扰影响情况,选择了适宜的仪器设定参数和分析曲线以及外标校正线,通过正确选取同步背景校正点,消除基体的影响。并进行了实际样品的分析时照、精密度等试验,均取得了良好的效果。

关 键 词：ICP-OES 高铝铝锰铁 CCD 

分 类 号：TG115.3[金属学及工艺—物理冶金]