大尺寸硅单晶棒Notch槽滚磨工艺研究  

作　　者：李涛[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津 300220

出　　处：《中国科技期刊数据库 工业A》2020年第9期00120-00120,共1页

摘　　要：随着半导体产业的不断发展,大尺寸(8英寸-12英寸)硅单晶的需求也越来越大。与小尺寸(2英寸-6英寸)硅片不同,为了有效利用硅片,大尺寸硅片通常采用Notch槽作为参考面,这也增加了滚磨的难度。通过对大尺寸硅单晶棒Notch槽滚磨工艺的研究,确定了一种较为可行的Notch槽加工工艺。

关 键 词：NOTCH 晶向 角度 深度 

分 类 号：TS103.821[轻工技术与工程—纺织工程]