化学气相淀积(CVD)薄膜技术的新近发展及其运用  

作　　者：付学群 

机构地区：[1]南京中电熊猫液晶显示科技有限公司,江苏南京210000

出　　处：《中文科技期刊数据库（引文版）工程技术》2022年第4期306-309,共4页

摘　　要：化学气相沉积技术是现代较为先进的无机材料制备技术,在玻璃态无机薄膜材料生产以及新晶体研制等领域均有着广泛应用。为更好地对技术展开应用,文章将通过对化学气相沉积技术基本情况的介绍,对技术在薄膜材料制备中的应用展开探讨,并会针对技术最近发展与运用展开分析,期望能够为国内薄膜制备技术发展提供有效助力。鉴于该项技术应用价值,值得对技术展开深层次探讨。

关 键 词：CVD技术 薄膜 开管气流技术 封管气流技术 晶须 

分 类 号：TB383[一般工业技术—材料科学与工程]