氮化硅薄膜在LOWE镀膜工艺中的应用及性能研究  

作　　者：温小兵 

机构地区：[1]深圳市新旗滨科技有限公司,广东深圳518000

出　　处：《中文科技期刊数据库（全文版）工程技术》2023年第7期67-70,共4页

摘　　要：随着科技的发展,新材料和新工艺不断涌现,为各行各业提供了更多的可能性。其中,氮化硅薄膜在LOWE镀膜工艺领域的应用非常广泛,引发了广大科研人员和工程师的关注。本文将通过对氮化硅薄膜的成分、制备方法和性能进行深入研究,以及对LOWE镀膜工艺的基本原理和优点进行解析,并探讨了氮化硅薄膜在LOWE中的作用,及其在其他相关应用中的效果和影响。此外,本文还通过实验设计和数据分析,深入研究了氮化硅薄膜在LOWE镀膜工艺中的性能,希望能够为氮化硅薄膜在工业领域的应用提供了理论依据。

关 键 词：氮化硅薄膜 LOWE镀膜工艺 应用研究 性能分析 实验设计 

分 类 号：TN304[电子电信—物理电子学]