半导体行业超纯水处理系统的调试与分析  

作　　者：张勇 

机构地区：[1]栗田工业(苏州)水处理有限公司,江苏 苏州 215000

出　　处：《中文科技期刊数据库(引文版)工程技术》2025年第2期039-042,共4页

摘　　要：本文详细分析了某公司超纯水处理系统的试运行过程,重点讨论了调试过程中遇到的技术难点及其解决方案。该系统采用两级抛光、两级超滤等处理工艺,可有效去除水中大分子有机物及金属离子等杂质,达到超纯水中金属离子浓度<0.1 ppt的严苛要求。本文通过对系统调试和性能评估的深入探讨,总结了确保半导体硅片制造用水高质量的重要技术方法,为半导体行业的水处理技术提供了参考。

关 键 词：半导体硅片 超纯水处理系统 系统调试 

分 类 号：TH161+.11[机械工程—机械制造及自动化]