不同温度还原超细K-Co-Mo催化剂的XPS研究  

作　　者：孙中海[1] 伏义路[1] 鲍骏[1] 

机构地区：[1]中国科学技术大学,化学物理系,安徽,合肥,230026 中国科学技术大学,化学物理系,安徽,合肥,230026 中国科学技术大学,化学物理系,安徽,合肥,230026

出　　处：《石油化工》2004年第z1期627-629,共3页Petrochemical Technology

摘　　要：采用XPS技术研究了合成低碳醇反应中还原温度对超细K-Co-Mo催化剂结构的影响.分别考察不同还原温度下K、Co和Mo活性物种的价态以及相对含量的变化.结果表明,表面上Mo主要以两种价态存在(+4和+6).随还原温度的升高,催化剂表面上Mo4+/Mo6+比值增大,较高的Mo4+/Mo6+比值有利于形成合成醇反应中活性位.催化剂表面上的Co以+2价存在.还原温度低于500℃时,催化剂表面上Co2+的相对含量变化不大,当还原温度为550℃时,催化剂表面上的Co2+迅速减少,这种催化剂表面上Co2+的迅速减少可能导致合成醇活性的迅速降低.K+在还原温度低于500℃时,相对含量没有明显变化,经550℃还原后,K+在催化剂表面明显富集.

关 键 词：还原温度 超细K-Co-Mo催化剂 低碳醇合成 XPS 

分 类 号：O643.32[理学—物理化学]