磁控溅射制备TbFeCo薄膜及其光学和磁光性质研究  

The optical and magneto-optical properties of TbFeCo films prepared by magnetron sputtering systems

作　　者：张晋敏[1,2] 郜小勇[1] 李晶[1] 周鹏[1] 郑玉祥[1] 王松有[1] 张冬青[2] 陈良尧[1] 

机构地区：[1]复旦大学,光科学与工程系,上海,200433 [2]贵州大学,电子科学系,贵州,贵阳,550025复旦大学,光科学与工程系,上海,200433复旦大学,光科学与工程系,上海,200433复旦大学,光科学与工程系,上海,200433复旦大学,光科学与工程系,上海,200433复旦大学,光科学与工程系,上海,200433贵州大学,电子科学系,贵州,贵阳,550025复旦大学,光科学与工程系,上海,200433

出　　处：《功能材料》2004年第z1期790-792,共3页Journal of Functional Materials

基　　金：贵州省科技厅自然科学基金(20033059)和贵州省教育厅自然科学基金(2003315)资助.

摘　　要：采用放电等离子烧结(SPS)TbFeCo合金靶,分别在Si衬底和K9玻璃衬底上磁控溅射制备了磁光薄膜TbFeCo/Si和TbFeCo/K9;利用扫描型可变入射角全自动椭偏仪,室温下测量了复介电常数谱,测量结果表明两样品介电函数值有较大差异,说明衬底对薄膜的光学性质有重要影响.用磁光Kerr谱仪,在室温下分别测量了TbFeCo薄膜的极向Kerr回线和横向Kerr回线,发现所制备TbFeCo薄膜不具有垂直磁化性质,而呈现出面内磁化性质.

关 键 词：放电等离子烧结(SPS) 磁光薄膜 椭偏光谱 磁光Kerr效应 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]