反应液加入H2O2制备本征SnO2高阻薄膜  被引量:1

High resistivity SnO2 films prepared with H2O2 being joined into the solution

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作  者:郝瑞英[1] 雷智[1] 郑家贵[1] 冯良桓[1] 蔡伟[1] 武莉莉[1] 张静全[1] 

机构地区:[1]四川大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610064 四川大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610064 四川大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610064 四川大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610064 四川大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610064 四川大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610064 四川大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610064

出  处:《功能材料》2004年第z1期1148-1150,共3页Journal of Functional Materials

基  金:国家自然科学基金(项目编号50076030);国家863重点项目(项目编号2003AA513010)

摘  要:在反应液中加入H2O2,用超声喷雾热分解技术制备了SnO2高阻薄膜.结合XRD图谱,方块电阻测试,透光率测试以及Tauc曲线分析的结果,发现反应液中加入H2O2制备的SnO2薄膜,膜质较好,样品在(200)晶面有明显的择优取向;电阻率有明显提高,为12~13 Ω·cm;透光率与一般的透明导电膜并没有很大差别.

关 键 词:H2O2 SNO2 超声喷雾热分解技术 

分 类 号:O484[理学—固体物理]

 

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