铌酸锶钡薄膜制备及椭偏光谱研究  

Study of fabrication and spectroscopic ellipsometry of SBN thin films

作　　者：王正[1] 张曰理[1] 郭扬铭[1] 莫党[1] 

机构地区：[1]中山大学,光电材料与技术国家重点实验室,物理系,广东,广州,510275 中山大学,光电材料与技术国家重点实验室,物理系,广东,广州,510275 中山大学,光电材料与技术国家重点实验室,物理系,广东,广州,510275 中山大学,光电材料与技术国家重点实验室,物理系,广东,广州,510275

出　　处：《功能材料》2004年第z1期178-180,共3页Journal of Functional Materials

基　　金：国家自然科学基金(50372085);教育部留学回国启动基金;广东省自然科学基金(021771)

摘　　要：用溶胶-凝胶法成功地制备出了退火温度分别为500、600、700、800、900℃的铌酸锶钡(SBN)薄膜;对制备出SBN薄膜分别进行了椭偏光谱测量研究,得到了不同退火SBN薄膜椭偏光谱参数曲线;并对测得的椭偏光谱进行了数值反演计算,得到了不同退火温度的SBN薄膜的光学常数谱.结果发现SBN薄膜的折射率和消光系数都随着退火温度的增高而增大.

关 键 词：SBN薄膜 溶胶-凝胶法 椭偏光谱 

分 类 号：O848.1[理学]