电化学沉积法制备ZnO及ZnO/酞菁锌杂化薄膜  

Electrodeposition of ZnO and ZnO/4-LsPcZn thin films

作　　者：陈秋萍[1] 薛敏钊[1] 何冯耀[1] 刘燕刚[1] 

机构地区：[1]上海交通大学,化学化工学院精细化工研究所,上海,200240 上海交通大学,化学化工学院精细化工研究所,上海,200240 上海交通大学,化学化工学院精细化工研究所,上海,200240 上海交通大学,化学化工学院精细化工研究所,上海,200240

出　　处：《功能材料》2004年第z1期401-403,406,共4页Journal of Functional Materials

摘　　要：采用电化学沉积法在ITO玻璃基体上成功地制备出各种形态且均匀的ZnO及ZnO/酞菁锌薄膜.利用SEM、XRD以及UV-Vis光谱仪等分析方法对不同工艺下制备的薄膜进行了研究,结果显示:所制备的纯ZnO薄膜为具有特定晶形的多晶,晶粒尺寸约为0.5～2 μ m;而ZnO/酞菁锌杂化薄膜为非晶态,染料分子与ZnO分子间的相互作用既影响了ZnO的晶体生长又改变了染料的光谱特性,形成了ZnO/酞菁锌杂化薄膜.

关 键 词：电化学沉积 ZNO 杂化薄膜 酞菁锌 

分 类 号：O649.4[理学—物理化学]