水热法制备锡掺杂氧化钛薄膜工艺因素研究  

Hydrothermal Growth of Sn-Doped TiO2 Film

作　　者：丁常胜[1] 苗鸿雁[1] 罗宏杰[1] 王秀峰[1] 

机构地区：[1]陕西科技大学材料科学与工程学院,咸阳,712081 陕西科技大学材料科学与工程学院,咸阳,712081 陕西科技大学材料科学与工程学院,咸阳,712081 陕西科技大学材料科学与工程学院,咸阳,712081

出　　处：《真空科学与技术学报》2004年第z1期82-85,共4页Chinese Journal of Vacuum Science and Technology

基　　金：国家杰出青年科学基金资助(No.50025208)

摘　　要：以Ti(SO4)2为前驱物,尿素为沉淀剂,SnCl4为掺杂剂,采用水热法制备出Sn-TiO2薄膜.利用XRD、SEM和UV-VIS等测试手段对薄膜的物相、表面形貌和吸光性等进行了表征.研究了Ti(SO4)2的浓度、SnCl4的掺入量、水热反应温度和保温时间对制备Sn-TiO2薄膜的影响.结果表明,在一定工艺条件下,可制备出均匀、致密,无可视缺陷,厚度约160 nm的Sn-TiO2薄膜.

关 键 词：掺锡二氧化钛 薄膜 水热法 工艺因素 

分 类 号：TB34[一般工业技术—材料科学与工程]