芯片及微细加工超净环境技术的研究  

作　　者：芮延年[1] 张志伟[1] 刘开强[1] 任芸丹[1] 

机构地区：[1]苏州大学,机电工程学院,苏州,215021 苏州大学,机电工程学院,苏州,215021 苏州大学,机电工程学院,苏州,215021 苏州大学,机电工程学院,苏州,215021

出　　处：《机械设计》2004年第z1期54-56,共3页Journal of Machine Design

摘　　要：芯片生产及微细加工过程中超净环境问题十分重要.本文通过对芯片及微细加工工艺对环境问题要求的研究,探讨获取超净环境的方法、构建了超净环境动力模型,并对超净环境设计中关键问题进行了较为深入的探讨,为芯片生产及微细加工超净环境设计提供了理论基础.

关 键 词：芯片生产及微细加工 超净环境技术 

分 类 号：TH122[机械工程—机械设计及理论]