纳米结构的制备及其应用  

Fabrication of the Nano-Structure and Its Applications

作　　者：卢刚[1] 毛胜春 

机构地区：[1]西安理工大学电子工程系,陕西西安710048 [2]西安理工大学应用物理系,陕西西安710048

出　　处：《微电子学》2002年第6期416-418,共3页Microelectronics

基　　金：西安理工大学校长基金资助(No.210201)

摘　　要：　介绍了用电子束光刻、反应离子刻蚀方法制备硅量子线、量子点的工艺方法;采用这种工艺在P型SIMOX(separationbyimplantedoxygen)硅片上成功地制造出一种单电子晶体管。Technologies for preparation of Si quantum wire and dot based on EBL and RIE processes are reported in the paper Single electron transistor (SET) on ptype SIMOX substrates was fabricated based on these processes

关 键 词：纳米结构 单电子晶体管 量子线 量子点 

分 类 号：TN32[电子电信—物理电子学]