多通道电离过程中光电子角分布的干涉分析  

Analysis of the interference pattern of the photoelectronic angular distribution with multi-path ionization

作　　者：刘娟[1] 樊荣[1] 程建军[1] 仇旭[1] 任立庆[1] 马瑞琼[1] 李永放[1] 

机构地区：[1]陕西师范大学物理学与信息技术学院,陕西西安710062

出　　处：《陕西师范大学学报（自然科学版）》2009年第2期29-32,共4页Journal of Shaanxi Normal University：Natural Science Edition

基　　金：陕西省自然科学基金资助项目(2007A04)

摘　　要：基于光电子成像光谱技术原理,研究了双光子共振三光子电离方法获得的光电子成像图谱.着重分析了多通道电离过程中光电子的干涉作用对成像光谱的影响.结果表明,多通道电离过程中产生的光电子角分布与激发态的能态特点有关.Based on the principle of the photoelectron imaging spectrometry,the photoelectron image is investigated by using two-photon resonance and three-photo ionization.The energy and angular distribution of the photoelectrons are described simultaneously via the interference pattern with multi-passage ionization.The analysis of the ionization patterns show that the angular distributions of the photoelectrons with multi-passage ionization are associated compactly with the characters of the atomic levels of the exc...

关 键 词：双光子共振 三光子电离 电离速率 光电子角分布 

分 类 号：O431.2[机械工程—光学工程]