真空紫外波段光学晶体材料的研制  

Preparation of Optical Crystal Used in Vacuum Ultraviolet Band

作　　者：纪慎功[1] 李艳红[1] 

机构地区：[1]中国科学院长春光学精密机械研究所,长春130022

出　　处：《人工晶体学报》2000年第S1期100-,共1页Journal of Synthetic Crystals

摘　　要：随着准分子激光器的发展 ,出现新的强紫外光源 (XeF :35 0nm ;XeCl:30 8nm ;KrF :2 49nm ;KrCl:2 2 2nm ;ArF :1 93nm ;F2 :1 5 7nm ;Xe2 :1 73nm ;Kr2 :1 45nm ;Ar2 :1 2 0nm) ,促使短波段诸方面的研究工作迅速发展。短波段光学材料成为高科技发展的重要领域 ,VUV级光学材料国内外市场供不应求。此项研究具有提高材料性能 ,开拓新的研究及应用领域的学术意义 ,又具有明显的经济效益。早在 90年代初我们就开始了真空紫外级光学晶体材料的研究工作 ,主要研究金属和非金属杂质对紫外波段的吸收。一直到现在都是我们研究的重点。众所周知 :迄今为止所知材料中 ,MgF2 、CaF2 、LiF真空紫外波段透光性能最好 ,LiF的短波段 1 1 0nm ,但色心问题突出。MgF2 、CaF2 物理性能较好 ,尤其是抗氟气反应是其它材料无法比拟的。但我们生长的MgF2 、CaF2 晶体 ,其原料中都含有微量的Mg、Al、Cu、Fe、Ni、Pb等 ,如果这些晶体作为红外窗口材料 ,这些杂质的质量分数只要不超过 1 0 -3 %就不会产生吸收峰 ,如将其作为VUV级窗口材料 ,这些杂质将会在该波段产生吸收峰 ,另外象OH-( 1 0 -3 % )也将在紫外区产生吸收 ;碱土氟化物晶体中O2 -的存在将产生散射中心 ,这些都表明阴离子基团对晶体的影响远比阳离子敏锐得多 。

关 键 词：光学晶体 晶体材料 紫外波段 

分 类 号：O78[理学—晶体学]