应用常值统计约束的非均匀性校正——模拟与数字实现  

作　　者：何大竺 

出　　处：《航空兵器》2000年第2期42-48,共7页Aero Weaponry

摘　　要：现时的红外焦平面阵列(IRFPA)受限于各敏感元件差异校正后的不稳定性。一般,片外数字校正用于校正这类探测器阵列的非均匀性,启动时用专门的校准图像去校正系统。这种一次性校正程序来考虑其它的工作点,且不能对参数漂移作再校正。利用神经生物学的启示,我们发展了一种用于IRFPA非均匀性校正的常值统计约束(CS)算法。对被观察景物作些简单的假设,即可对增益与偏置成功地实现校正。我们给出了利用数字实现的一维与二维校正结果,同时表明在收敛速度和计算复杂性方面,常值统计约束算法优于由Scribner发展的基于LMS(最小均方)的非均匀性校正。最后,我们评论了模拟电路的结果,它是用2μm CMOS技术设计与制造的。测试我们的试验芯片表明,对输入信号的增益与偏置变化,系统实现了不变性。此硬件的目标是最后应用于焦平面上或其后的硬件实现中。

关 键 词：非均匀性校正 IRFPA处理 模拟硬件 

分 类 号：TP21[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]