Secondary Electron Yield Studies on Vacuum Materials  

真空室材料二次电子产额特性研究

作　　者：张耀锋[1] 王勇[1] 尉伟[1] 王建平[1] 范乐[1] 管长应[1] 刘祖平[1] 

机构地区：[1]中国科学技术大学国家同步辐射实验室,合肥230029

出　　处：《Chinese Physics C》2008年第z1期68-70,共3页中国物理C（英文版）

基　　金：国家自然科学基金(10675119)资助~~

摘　　要：A secondary electron yield test device for vacuum material study is set up,and its detailed design described in this paper.The test results for a few common vacuum materials with and without TiN film coating are presented,and the influential factors on secondary electron yield are analyzed.All the work will be helpful to the surface pretreatment of vacuum materials.设计了针对加速器真空室材料样品的二次电子产额测试装置.对测试装置的设计及测试过程进行了详细介绍,并给出了常见真空室材料的二次电子产额测试结果以及不锈钢材料在经过镀TiN薄膜处理前后的测试对比结果,分析了影响二次电子产额的一些因素,为真空室的表面处理提供了依据.

关 键 词：electron cloud electron secondary yield vacuum chamber material TiN coating 

分 类 号：O462.2[理学—电子物理学]