纳米TiO2薄膜在光纤上的沉积  

TiO2 Thin Films Prepared by Liquid Phase Deposition on the Optical Fiber

作　　者：李顺[1] 刘家臣[1] 田勃然[1] 杜海燕[1] 

机构地区：[1]天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室,天津,300072 天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室,天津,300072 天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室,天津,300072 天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室,天津,300072

出　　处：《稀有金属材料与工程》2005年第z2期856-858,共3页Rare Metal Materials and Engineering

摘　　要：采用液相沉积法(LPD),在40℃通过向氟钛酸铵水溶液中添加硼酸和结晶诱导剂锐钛矿型TiO2纳米晶,在光纤上沉积出具有光催化活性的TiO2薄膜.并对其进行了XRD测试和SEM测试,探讨了处理温度、沉积时间和次数等对TiO2薄膜的表面与界面及薄膜厚度的影响.结果表明:利用液相沉积法可以在较低的温度下制备TiO2薄膜,并通过热处理可得到均一的TiO2薄膜;随着沉积时间的延长,或者是沉积次数的增加,沉积在光纤上的TiO2的厚度也随之增加,薄膜的透明度和颜色也随之发生变化;由于沉积在光纤表面的TiO2与基质SiO2之间形成Si-O-Ti键,使得基质与沉积在表面的TiO2薄膜间形成了紧密地结合.

关 键 词：纳米TIO2 光纤 薄膜 液相沉积法 

分 类 号：TQ153[化学工程—电化学工业]