立体光刻技术制备三维光子晶体  

Fabrication of Three-Dimensional Photonic Crystals with Diamond Structure by SLA Technique

作　　者：文景[1] 尹海清[1] 张瑞娟[1] 曹文斌[1] 

机构地区：[1]北京科技大学材料科学与工程学院,无机非金属材料系,北京,100083 北京科技大学材料科学与工程学院,粉末冶金研究所,北京,100083 北京科技大学材料科学与工程学院,无机非金属材料系,北京,100083 北京科技大学材料科学与工程学院,无机非金属材料系,北京,100083

出　　处：《Journal of Semiconductors》2007年第z1期357-359,共3页半导体学报（英文版）

基　　金：国家重点基础研究发展规划(批准号:2004CB719802),北京市科技新星计划(批准号:2003812)和高等学校博士学科点专项科研基金(批准号:20050008002)资助项目

摘　　要：以三维金刚石结构光子晶体为例,采用立体光刻技术(SLA)进行三维光子晶体的制备研究.微波透射谱测试表明,所制备的光子晶体的禁带分布在12.3～13.4GHz之间,与理论计算值一致,表明立体光刻技术可用于复杂三维光子晶体结构的制备研究.

关 键 词：立体光刻技术 光子晶体 光子禁带 CAD 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]