添加钨对γ-TiAl价电子结构和性能的影响  

Effect of Additive Tungsten on Electronic Structures and Properties of γ-TiAl Alloy

作　　者：郑冬冬[1] 张平则[1] 吴红艳[1] 

机构地区：[1]南京航空航天大学材料科学与技术学院,江苏南京210016

出　　处：《稀有金属》2010年第1期98-102,共5页Chinese Journal of Rare Metals

基　　金：航空科学基金(2007ZE52057)资助项目

摘　　要：采用固体与分子经验电子理论(EET)计算了TiAl基合金中W原子在不同占位比时价电子结构,并分析了W的溶入量在0～5.4%之间变化对相结构因子σN,F,ρvl,ρcv,nA以及合金性能的影响变化规律。结果表明:W含量在0～5.4%之内变化时,各原子的杂阶变化比较小,W原子仅升高了1～3个杂阶。随着W溶入量的增加,合金相的稳定性增强,强度、硬度和耐磨性提高,塑性则下降,而且这些性能的变化具有良好的连续性并能通过相结构因子来表征。这些关系对于制备梯度材料具有重要的意义。各相结构因子之间有着密切的关系,在实际合金设计时需综合考虑,从而提出改善γ-TiAl合金性能的有效途径。The changes of valence electron structure were calculated with the empirical electron theory of solid and molecule(EET) for TiAl-based alloy with different W dissolving into Ti sublattice. Meanwhile,the effect of valence electron structures with different W contents on phase structure factors σN,F,ρlv,ρcv,nA and the properties of alloy were discussed,moreover the W content was 0~5.4%. It was shown that,with the W content changing in the range of 0~5.4%,the hybrid orders of each atom changed very small and W...

关 键 词：价电子结构 相结构因子 Γ-TIAL 

分 类 号：TG111.1[金属学及工艺—物理冶金]