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检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:肖乐银[1,2,3] 刘心宇[1] 林峰[1,2,3] 王进保[3] 周卫宁[3]
机构地区:[1]桂林电子科技大学,桂林541004 [2]广西超硬材料研究开发重点实验室,桂林541004 [3]国家特种矿物材料工程技术研究中心,桂林541004
出 处:《金刚石与磨料磨具工程》2013年第2期23-26,共4页Diamond & Abrasives Engineering
基 金:广西科技开发项目(桂科攻12118020-2-2-3);广西超硬材料研究开发重点实验室专项经费(12-071-12)
摘 要:研究了不同电源及双脉冲电源不同工作参数对镀层表面粗糙度及厚度变化的影响,采用金相显微镜观察镀层形貌,从而确定获得最佳镀层平整性的电源工作参数。结果表明:使用脉冲电源比直流电源镀层表面更致密光亮,平整性更好;当双脉冲电镀电源正向占空比为30%,镀层表面粗糙度为0.714μm,平均输出电流为36 A,设备利用率高。正反向脉冲持续时间比为100 ms/20 ms时,镀层表面粗糙度为0.609μm,镀件不同部位厚度差为0.428 mm,满足金刚石电镀工具加工精度的要求,且电镀效率适中,适合工业生产。Different electroplating powers and parameters were selected to contrast the variation of surface roughness,thickness and surface morphology of plating layers by metallurgical microscope.The type of electroplating power and operating parameters were determined to obtain better smoothness.Results showed that the smoothness and density were better when using the pulse power instead of DC power,and that with the positive duty cycle 30% and positive and reverse pulse duration ratio 100 ms/20 ms,the electroplated diamond tools could meet the requirements of precision machining with surface roughness 0.609 μm and thickness variation 0.428 mm,while the plating efficiency was acceptable,thus suitable for industrial production.
分 类 号:TQ153[化学工程—电化学工业]
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