彬县大佛寺石窟彩绘保护研究  

作　　者：樊娟 贺林 

出　　处：《敦煌研究》1996年第1期140-153,188,共15页Dunhuang Research

摘　　要：本文借助Ｘ—射线衍射分析、Ｘ—射线荧光分析、电子探针微区分析，剖面染色技术、紫外荧光观察、系统微量化学分析、红外光谱分析以及显微观察技术。对取自彬县大佛寺石窟不同部位的１５个彩绘样品进行了逐层的观察、分析与研究，鉴定了１４种颜料成分，４种粘合剂类型；揭示了多重彩绘的结构和彩绘工艺技术；并通过分析结果探讨了彩绘损坏的原因、重层彩绘的相对年代和彩绘修复史，初步提出了对彩绘的保护方法。

关 键 词：彩绘保护 大佛寺石窟 颜料层 红色颜料 微量化学分析 粘合剂 微区分析 动物胶 砂岩表面 电子探针 

分 类 号：G264.2[历史地理—考古学及博物馆学]