高岭石层面羟基的硅烷嫁接改性机理  

作　　者：杨淑勤[1,2] 何宏平[1,2] 袁鹏[1] 朱建喜[1] 覃宗华[1,2] 刘冬[1,2] 

机构地区：[1]中国科学院广州地球化学研究所,广东广州510640 [2]中国科学院研究生院,北京100049

出　　处：《矿物学报》2010年第S1期5-6,共2页Acta Mineralogica Sinica

基　　金：国家自然科学基金(编号:U0933003);国家杰出青年基金(编号:40725006)

摘　　要：高岭石[Al2Si2O5(OH)4]是一种1∶1型的层状硅酸盐矿物,其结构单元层由一层[SiO4]四面体片和一层[AlO6]八面体片组成,因此高岭石片层具有两种不同性质的表面:硅氧烷底面和羟基底面。高岭石的羟基底面为硅烷嫁接提供了场所,通过八面体片上的羟基与有机硅烷发生缩合形成Al-O-Si共价键。

关 键 词：高岭石 嫁接 有机硅烷 表面羟基 八面体片 硅烷化反应 共价键 层状硅酸盐矿物 不同性质 缩合 

分 类 号：P57[天文地球—矿物学]