羟基铁铝柱撑蒙脱石的可见光催化性能研究  

作　　者：李海玲[1] 吴平霄[1] 

机构地区：[1]华南理工大学环境科学与工程学院,广东广州510006

出　　处：《矿物学报》2010年第S1期196-197,共2页Acta Mineralogica Sinica

基　　金：国家自然科学基金项目(40973075;40730741;40573064);教育部新世纪优秀人才支持计划(NCET-06-0747);广东省科技计划项目(2006B36601004;2008B30302036;2009B050900005);广东省自然科学基金项目(06025666;9351064101000001);中央高校基本科研业务费专项资金(2009ZZ0048;2009ZZ0073;2009ZM0202)

摘　　要：Photo-Fenton反应是一种有效的高级氧化技术。Fenton体系中铁离子和H2O2能产生活泼的羟基自由基(·OH),其氧化还原电位为2.8V,仅次于氟(2.87V),因此可以将有机污染物降解为无毒、易生物降解的小分子物质。

关 键 词：羟基自由基 铝柱撑蒙脱石 光催化 羟基铁 降解效率 催化剂循环 铁离子 高级氧化技术 氧化还原电位 催化剂投加量 

分 类 号：P57[天文地球—矿物学]