确定性抛光综述  

Review on Deterministic Polishing

作　　者：计时鸣[1] 杜学山[1] 陈国达[1] 金明生[1] 

机构地区：[1]浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室,杭州310032

出　　处：《航空精密制造技术》2010年第6期1-5,12,共6页Aviation Precision Manufacturing Technology

基　　金：国家自然科学基金(50575208);浙江省自然科学基金(M503099)资助项目

摘　　要：对确定性抛光中的磁流变抛光、磁射流抛光、离子束抛光、气囊抛光技术进行综述,重点介绍各种方法的工作原理以及如何实现确定性抛光,指出确定性抛光的发展趋势。对确定性抛光中的磁流变抛光、磁射流抛光、离子束抛光、气囊抛光技术进行综述,重点介绍各种方法的工作原理以及如何实现确定性抛光,指出确定性抛光的发展趋势。

关 键 词：确定性抛光 驻留时间 去除函数 

分 类 号：V26[航空宇航科学与技术—航空宇航制造工程]