薄膜材料与器件  

出　　处：《中国光学》2002年第3期66-66,共1页Chinese Optics

摘　　要：O484.1 2002032070铁电薄膜材料生长及特性=Growth of ferroelectric film materails and their characteristics[刊,中]/王根水（中科院上海技物所.上海（200083））//红外.-2001,（5）.-7-9围绕铁电薄膜材料的制备方法、生长及特性作了文献综述。参55（董玉敏）TB43 2002032071Pb_1-xGe_xTe材料及光学薄膜器件温度稳定性的研究=Pb_1-xGeTe matreials and temperature stability ofoptical thin film devices[刊,中]/李斌,张凤山,张素英（中科院上海技物所.上海（200083））//红外.-2001,

关 键 词：薄膜材料 光学薄膜器件 文献综述 温度稳定性 制备方法 中科院 材料生长 红外 上海 特性 

分 类 号：O484.41[理学—固体物理]