薄膜材料与器件  

出　　处：《中国光学》2002年第6期52-52,共1页Chinese Optics

摘　　要：O484.4 2002064340具有铌化合物薄膜硅微尖 FEA 的场发射性能=Field e-mission characteristics of silicon-tip FEA with Nblayers[刊,中]/季旭东(华东电子集团公司,南京(210028))∥光电技术.—2002,43(2).—46-49介绍了在硅微尖 FEA 上制备的铌化合物薄膜,并对该类膜改进硅发射微尖的场发射性能做了说明。图6参4(杨妹清)

关 键 词：场发射性能 硅微尖 铌化合物 光电技术 发射微尖 有限元分析 器件 集团公司 薄膜材料 薄膜技术 

分 类 号：O484.41[理学—固体物理]