日本开发出新的半导体制造设备  

出　　处：《电子工业专用设备》2004年第7期41-41,共1页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：东京消息，日本东芝公司和半导体制造设备业者日本真空技术公司最近联合开发出制造电晶体基本部分的新离子植入设备，可使制造成本减半，将来可能改变半导体业的竞争环境。

关 键 词：东芝公司 真空技术公司 半导体制造设备 离子植入 电晶体 

分 类 号：F407.63[经济管理—产业经济]