高分子电子束抗蚀材料  

POLYMERIC RESIST MATERIALS

作　　者：陈柳生[1] 王艳乔[1] 邱家白[1] 

机构地区：[1]中科院化学研究所

出　　处：《感光材料》1993年第2期3-8,共6页

摘　　要：本文介绍了高分子在电子束作用下的主要反应以及感电子束和x-射线的各类高分子材料;同时简单介绍了为提高分辨率而新发展的新工艺——反差提高层。Some polymeric resist materials for electron beam and x-ray and their main reactions caused by electron beam radiation are described. A new technique called contrast enhanced layer(CEL)is also introduced brifly.

关 键 词：高分子材料 电子束 抗蚀材料 

分 类 号：TB324[一般工业技术—材料科学与工程]