感半导体激光菁染料稳定性的研究  

作　　者：曾万学[1] 陈萍[1] 郑德水[1] 

机构地区：[1]中国科学院感光化学研究所,硕士研究生北京100101

出　　处：《感光科学与光化学》1993年第4期372-372,共1页Photographic Science and Photochemistry

摘　　要：菁染料因其具有容易合成、价格便宜、光学特性好等优点,在感光胶片中已大量应用,在有机光盘中也越来越受到人们的重视。但是,由于长链的菁染料在光照下极易发生光氧化还原反应,稳定性较差,因此研究和解决菁染料的光稳定性对其在激光照排材料和有机光盘中的应用都具有非常重要的意义。 本文通过紫外-可见吸收光谱、荧光光谱、气相色谱、顺磁共振、激光喇曼光谱等方法,比较系统地研究了感半导体激光光源(650—780nm)的具有吲哚、喹啉、噻唑。

关 键 词：菁染料 光稳定性 半导体激光 

分 类 号：TQ613.5[化学工程—精细化工]