腐蚀开孔和二电极装置体系在电沉积镍—氧化铝纳米阵列中的应用  

ELECTRODEPOSITION OF NICKEL NANO-ARRAY ON PORE-FILM OF ALUMINA

作　　者：徐金霞[1] 黄新民[2] 梁岩峰 刘大智[1] 

机构地区：[1]河海大学材料科学与工程系,南京210098 [2]合肥工业大学材料学院,合肥230009 [3]中煤三建公司,宿县234000

出　　处：《腐蚀科学与防护技术》2004年第4期243-244,共2页Corrosion Science and Protection Technology

基　　金：河海大学科技创新基金 (NO .10 46-4 0 3 10 1)

摘　　要：分析了金属 -氧化铝纳米阵列直流电沉积重要工序之一的模板腐蚀开孔的实验影响因素 ;对二电极实验装置体系在直流电沉积镍 -氧化铝纳米阵列的应用可能性进行讨论并做了实验验证 .Nano-array of nickel-alumina was fabricated by electrodeposition of nickel on pore-film of alumina,which was stripped from an anodic treated pure aluminum plate.The influence of procedures for openning through-pore on the alumina film and the electrodeposition parameters on the formation of the nano-arroy of Ni-Al_2O_3 were discussed.

关 键 词：氧化铝模板 纳米阵列 直流电沉积 电沉积 腐蚀开孔 二电极装置体系 

分 类 号：TG174.44[金属学及工艺—金属表面处理]