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机构地区:[1]桂林电子工业学院信息材料科学与工程系,广西桂林541004
出 处:《桂林电子工业学院学报》2004年第4期14-17,共4页Journal of Guilin Institute of Electronic Technology
基 金:桂林电子工业学院博士科研启动基金(Z20304)
摘 要:TiO2薄膜的光催化性能研究前景广阔,具有纳米结构特征(如晶粒尺寸纳米化,大比表面积,高孔隙度等)的TiO2薄膜的光催化活性明显改善。文中主要探讨了TiO2薄膜的光催化性能,介绍了晶型、比表面积、粒径等形态结构以及金属离子掺杂、半导体耦合、贵金属沉积、光敏化等多种改进技术对其光催化性能的影响,及其研究进展情况。The study on TiO_2 film as a photo- catalyzer has an attractive application perspective. It is generally agreed that TiO_2 films with a nano-crystal and micro-pore structure shows good photo-catalytic performances. The article introduces the photo-catalytic mechanism of TiO_2 and discusses the influence of different factors and techniques on the photo-catalytic properties. These factors include the morphological structure such as a crystal structure, surface area and particle size; and the techniques are about the metal ion adulteration, precious metal deposition, composite semiconductors, photosensitization and so on. Recent studies on the photo-catalytic performance of nano-crystal TiO_2 films are briefly reviewed.
关 键 词:纳米TIO2薄膜 光催化 纳米晶 晶型 比表面积 光敏化
分 类 号:TN304[电子电信—物理电子学]
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