高精表面测试仪研究  

作　　者：王菊香[1] 倪浆铭[1] 裴先登[1] 

机构地区：[1]华中理工大学

出　　处：《工业仪表与自动化装置》1993年第4期22-24,49,共4页Industrial Instrumentation & Automation

摘　　要：随着磁盘工业的技术进步,硬盘记录向高密度化发展。其记录性能越来越受到盘面粗糙度、平整度等机械性能的影响。因此,磁盘表面测试技术显得特别重要。本文采用PZT调制光外差干涉技术,设计并实现一种非接触测试系统。大量测试分析表明,本文给出的系统可实现磁盘表面粗糙度的精确测量。

关 键 词：磁记录 粗糙率 非接触测量 磁盘 

分 类 号：TQ587.2[化学工程—精细化工]