短脉冲XeCl激光动力学模型及辉光抽运设计  

Dynamic model of a new XeCl laser with short duration time and UV grow discharge system design

作　　者：任韧[1] 陈长乐[2] 朱世华[3] 徐进[4] 金克新[2] 王永仓[2] 袁孝[2] 宋宙模[2] 

机构地区：[1]西安交通大学物理系,西安710049 [2]西北工业大学应用物理系,西安710072 [3]西安交通大学信息与通信系,西安710049 [4]西安交通大学生物医学工程所,西安710049

出　　处：《激光技术》2004年第4期434-437,448,共5页Laser Technology

基　　金：国家自然科学基金资助项目 (6 0 1710 4 3);陕西省自然科学基金资助项目 (2 0 0 1C2 1)

摘　　要：以薄膜沉积、外延生长及后续的光刻、激光与物质的相互作用、等离子体研究为目的 ,研究了XeCl动力学模型及辉光实现。采用辉光脉冲放电方法 ,实现了激光输出 ,根据动力学方程、XeCl激光四能级模型 ,计算了Xe Cl反应速率及密度。结果表明 ,辉光放电稳定 ,激光脉宽短 ,功率高 ,辉光放电体积大 ,激光脉宽 18ns,单脉冲能量4 5 0mJ ,矩形光斑 2cm× 1cm ,束散角 3mrad。动力学分析和系统模型成立 。A new high power,short duration time XeCl laser is realized in order to prepare microstructure of quantum effect,depositing film,molecular beam epitaxy and analysis of output pulse profiles. It adopts the method of glow discharged,the calculation of dynamic equation,the analysis velocity reaction and density of XeCl laser,and UV preionization. In the addition,the parameters of the laser are also measured. The results are wavelength 308nm,the pulse duration time 18ns,the pulse energy 450mJ and the beam divergence angle 3mrad. It is shown that the proposed glow discharged is realized,the dynamic equation model of laser is correct,and the laser has high efficiency to produce the vapor plasma plume.It can be applied in the interaction between laser and material,material plasma study.

关 键 词：XECL准分子激光 纳秒放电 脉冲激光沉积技术 辉光放电 

分 类 号：TN242[电子电信—物理电子学]