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作 者:杨昌喜[1] 廉英武 叶佩弦[1] 管庆才[2] 王断扬
机构地区:[1]中国科学院物理研究所,北京100080 [2]山东大学晶体材料研究所,济南250100
出 处:《光学学报》1993年第5期461-465,共5页Acta Optica Sinica
基 金:国家科委基础性研究重大关键项目No.2;国家自然科学基金资助
摘 要:分别用扩束光和一束写入光对KTa_(1-x)Nb_xO_3:Cu(X=0.32)晶体中的光折变栅进行擦洗,通过不同的擦洗效果,进一步论证了在写入过程中除了形成周期分布的空间电荷场之外,同时还形成了直流空间电荷场.并对直流空间电荷场被擦洗的动态过程进行了详细研究.此外,在写入之前利用一束均匀光照射在外加电场作用下的KTa_(1-x)Nb_xO_3:Cu晶体,研究了直流空间电荷场的形成对衍射信号强度的影响.The photorefractive grating in a KTa1-xNbxO3 : Cu ( x = 0. 32) crystal was erased with an expanded beam and one of the writing beams, respectively. Through the different erasing effects, it was further demostrated that besides a periodic space-charge field a DC space-charge field was formed simultaneously during writing. Meanwhile the dynamics of erasing a DC space-charge field was also studied. In addition, by irradiating KTa1-xNbxO3 : Cu crystal with one of the writing beams under an applied electric field before writing, the influence of the formation of DC space-charge field on the diffraction intensity was investigated.
分 类 号:TN244[电子电信—物理电子学]
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