用吸收成像法分析玻色-爱因斯坦凝聚的逃逸蒸发冷却  

作　　者：夏林[1] 陈帅[1] 周小计[1] 杨帆[1] 马修泉[1] 熊炜[1] 王义遒[1] 陈徐宗[1] 

机构地区：[1]北京大学信息技术学院量子信息与测量实验室,北京100871

出　　处：《量子光学学报》2004年第B09期30-30,共1页Journal of Quantum Optics

摘　　要：本文介绍利用吸收成像法得到的光学厚度来作为是否进行有效蒸发冷却的判据的基本原理。利用蒸发冷却实现BEC的过程中 ,过快或过慢的降低磁阱深度 ,都会带来大量的原子数损失和低的蒸发冷却效率。蒸发冷却过程必须是一个满足逃逸蒸发冷却 (runawayevaporation)条件的有效的过程。利用光学厚度和弹性碰撞率之间的关系 ,可直接用吸收成像法分析蒸发冷却过程是否有效。文中还结合北京大学量子信息与测量实验室实现BEC的实验数据加以说明。

关 键 词：吸收成像法 玻色—爱因斯坦凝聚 逃逸蒸发冷却 磁阱深度 弹性碰撞率 

分 类 号：O469[理学—凝聚态物理]