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机构地区:[1]北京石油化工学院机械工程系,北京102617 [2]北京印刷学院印包系,北京102600
出 处:《北京石油化工学院学报》2004年第2期1-4,共4页Journal of Beijing Institute of Petrochemical Technology
摘 要:提出了一种新的钛合金表面强化方法 ,利用加弧辉光离子无氢渗碳技术在钛合金表面形成渗碳层 ,从减摩和抗磨两个方面提高钛合金表面的摩擦学性能。该方法是在加弧辉光离子渗镀技术中引入由高纯石墨制成冷阴极电弧石墨靶 ,按冷阴极场致发射机制 ,源源不断地从电弧石墨靶上发射出高能量、高密度、高离化率、高速度的离子流 ,成功的在工业用Ti6A1 4V合金基材表面形成 2 5~3 0 μm厚的无氢且无结合强度问题的含有TiC的扩散层。在改善了Ti6A1 4V合金表面摩擦学性能的同时 ,又避免了氢元素对钛合金造成的氢脆问题。研究了钛合金无氢渗碳的工艺特点 ,从阴极偏压、靶距、弧流、时间和温度几个方面探讨了不同工艺参数对渗碳层厚度的影响。A new method, arc-added glow discharge plasma non-hydrogen carburizing on surface of titanium alloy (Ti-6A1-4V), is introduced in this paper. Using this method, the technological properties of Ti-alloy can be enhanced notably. High purity and high strength graphite was selected as cathode arc source. A carburizing layer 25~30 μm thick was obtained in 20~30 min. At the same time, hydrogen brittleness of titanium alloy was avoided. The carburizing layer is composed of TiC. The microhardness of titanium alloy surface attained 936HV after carburizing. The effect of its technical characteristics, including different bias voltage, distance from cathode arc source, arc current, time and temperature, were studied.
关 键 词:钛合金 加弧辉光离子 无氢渗碳工艺 离子流 TI6A14V
分 类 号:TG146.23[一般工业技术—材料科学与工程]
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