用迈克尔逊干涉仪测量纳米级薄膜厚度的研究  

Reaserching on the Messured Nanometer Level Film Thickness with Michelson' s Interferometer

作　　者：王恩实[1] 邓宇[1] 田晓燕[2] 

机构地区：[1]吉林建筑工程学院基础科学系,长春130021 [2]吉林建筑工程学院环境工程系,长春130021

出　　处：《吉林建筑工程学院学报》2003年第4期15-17,共3页Journal of Jilin Architectural and Civil Engineering

摘　　要：通过实验,介绍了如何利用波动光学原理和迈克尔逊干涉仪测量纳米膜厚度,为纳米技术和纳米材料的研究打开了新思路,提供了新方法.In this paper,authors present that how to apply undulatory theory of light to measure nanometer film thickness by used Michelson' s interferometer. It will supply a new method in the research field of nanometer technical materials.

关 键 词：纳米膜 纳米技术 纳米材料 迈克尔逊干涉仪 

分 类 号：O621[理学—有机化学]