专利名称：真空电弧蒸发源及使用它的薄膜形成装置  

出　　处：《表面技术》2004年第4期36-36,共1页Surface Technology

关 键 词：真空电弧蒸发源 薄膜形成装置 阴极蒸发 等离子体 叠层薄膜 

分 类 号：TG174.442[金属学及工艺—金属表面处理]