硒化镉薄膜微区分析  

Microanalysis of CdSe Thin Films

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作  者:郭亨群[1] 叶天水[1] 曾锦川[1] 

机构地区:[1]华侨大学电气技术系

出  处:《华侨大学学报(自然科学版)》1993年第2期175-179,共5页Journal of Huaqiao University(Natural Science)

基  金:福建省自然科学基金资助课题

摘  要:本文用电子探针对硒化镉薄膜进行微区分析,对薄膜的成分和厚度进行同时测定,并分析了制备条件对薄膜参数的影响。A Microanalysis of CdSe thin films was conducted with clectron prode.The con- stituent and thickness of the films were determined simultaneously.The influence of deposi- ting conditions on film parameters was analysed as well.

关 键 词:半导体 薄膜 微区分析 硒化镉 

分 类 号:TN304.25[电子电信—物理电子学]

 

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