薄层电解池流动注射法测定锰  

作　　者：何双娥[1] 

机构地区：[1]湖南大学化学化工系,长沙410082

出　　处：《化学传感器》1993年第2期65-67,50,共4页Chemical Sensors

摘　　要：本文研究了以石墨玻璃电极为工作电极,大面积饱和甘汞电极为对极的极简单的薄层电解池流动注射安培法测定锰的实验条件。选定了底液为0.01mol/LH_2SO_4—0.05mol/LNa_2SO_4,流速为0.22ml/分,电极面积为1.21cm^2。在—0.10V 电压下,MaO_4^-浓度的检测下限达2×10^(-6)mol/L(1.09×10^(-9)gMn^(2+)),Fe^(3+)严重干扰。在+0.50V 电压下 MnO_6^-浓度的检测下限达2×10^(-5)mol/L(1.09×10^(-8)gMn^(2+)),Fe^(3+)及常见金属离子基水上无干扰。本法测定锰的仪器设备简单,试液用量少(20μl),重现性好,测定速度快。在+0.50V 电压下测定铝合金及普碳钢中的锰,结果亦令人满意。

关 键 词：流动注射法 锰 测定 

分 类 号：O614.711[理学—无机化学]