磁场中等离子体鞘层的结构  被引量:13

Plasma sheath in a magnetic field

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作  者:邹秀[1] 刘金远[1] 王正汹[1] 宫野[1] 刘悦[1] 王晓钢[1] 

机构地区:[1]大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连116023

出  处:《物理学报》2004年第10期3409-3412,共4页Acta Physica Sinica

基  金:国家自然科学基金 (批准号 :10 175 0 13和 19875 0 0 7);国际合作基金 (批准号 :10 0 1760 80 7和 10 164 2 0 799)资助的课题~~

摘  要:采用流体力学理论 ,研究了斜磁场作用下的等离子体鞘层结构 .在不同大小及方向的磁场作用下 ,对鞘层的离子 ,电子密度分布 ,离子流速度分布 ,电势分布和Bohm判据进行了讨论 .结果显示磁场对鞘层的结构有明显的影响 .在静电力和洛仑兹力的作用下 ,离子流作螺旋进动 。The structure of the plasma sheath in an oblique magnetic field was investigated with the fluid method. In various different magnitude and directions of the magnetic field, the electron and ion density distribution, ion flow velocity, electron potential and Bohm's criterion have been calculated. It is shown that the magnetic field has obvious effect on the plasma sheath. Under the action of electrostatic and Lorentz forces, the ion flow makes a helical movement, and the ion density distribution fluctuates.

关 键 词:鞘层 离子流 等离子体 电势分布 磁场 电子密度分布 静电力 离子密度 

分 类 号:O531[理学—等离子体物理]

 

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