光栅印制机总体设计与关键技术研究  

Conceptual Design and Key Technology of the Grating Duplicating Machine

作　　者：张光弢[1] 高有行[1] 李翠敏[1] 

机构地区：[1]西安电子科技大学计算机外部设备研究所,陕西西安710071

出　　处：《自动化技术与应用》2004年第10期57-60,共4页Techniques of Automation and Applications

摘　　要：光栅是一种高精度的定位检测技术 ,根据大幅面喷墨绘图机喷墨定位检测技术的需要 ,本文提出了透射式光栅印制机的总体设计思想 ,包括透射式光栅印制机机械设计、电气设计、控制程序设计 ,并对关键技术进行了分析 ,给出了可行性解决方案。Grating is one method for high precision measurement. According to the requireme nt of large-format inkiet plotter, a conceptual design for transmissio n grating duplicating machine which involves the mechanical system design,the e lectrical system design and the control software are discussed in this pa per, and the key technology are also described in this paper.

关 键 词：光栅 定位精度 曝光 

分 类 号：TP29[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]