TiNi记忆合金中微观缺陷作用的正电子凐没研究  

Positron Study of Microdefects in TiNi Shape Memory Alloys

作　　者：尤富强[1,2] 殷俊林[1,2] 夏朝晖[1,2] 高国华[3] 

机构地区：[1]同济大学材料科学与工程学院 [2]上海市金属功能材料开发应用重点实验室,上海,200940 [3]上海市金属功能材料开发应用重点实验室

出　　处：《上海钢研》2004年第3期55-63,31,共10页Journal of Shanghai Iron and Steel Research

摘　　要：本文用正电子湮没方法对TiNi形状记忆合金中微观缺陷及微观缺陷对宏观物理性能的影 响进行了分析和研究。This paper describes the effect of microdefects on shape memory performances by means of positron annihilation technique associated with some physical metallurgy methods.

关 键 词：微观缺陷 正电子湮没 TINI形状记忆合金 物理性能 TiNi记忆合金 作用 研究 影响 分析 方法 

分 类 号：TG13[一般工业技术—材料科学与工程] TG146.15[金属学及工艺—合金]