电子背散射衍射技术对疲劳铜单晶中的不同位错结构的取向变化的分析  

Misorientation analysis of heterogeneous dislocation structure on cyclically deformed copper single crystal by electron back-scatter diffraction

作　　者：李勇[1] 高薇[1] 苏会和[1] 李守新[1] 

机构地区：[1]中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家实验室,辽宁沈阳110016

出　　处：《电子显微学报》2003年第6期562-563,共2页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

关 键 词：电子背散射衍射技术 铜单晶 循环形变 位错组态 梯状位错结构 迷宫位错结构 宏观形变带 位错墙结构 

分 类 号：TG115[金属学及工艺—物理冶金]