电沉积Ni-P非晶合金的晶化  

CRYSTALLIZATION OF ELECTRODEPOSITED AMORPHOUS Ni-PALLOY

作　　者：沈德久[1] 王玉林[1] 张静武[1] 张湘义[1] 王正[1] 张敏[1] 

机构地区：[1]燕山大学

出　　处：《金属热处理学报》1993年第3期58-60,共3页

摘　　要：1 前言镍磷非晶合金已广泛应用于航天航空、石油化工、机械和纺织等行业,并正朝着功能化方向发展。关于 Ni-P 非晶合金晶化研究报导很多,但一般只简单认为它的晶化产物是 Ni 与 Ni₃P 两相混合物。本文参考差热分析曲线,将样品加热到最高晶化温度以下的不同温度后快冷,用 X 射线衍射分析方法研究各温度下的晶化产物,并对相应温度处理的样品进行硬度测试,研究晶化对硬度的影响。An amorphous elecctroposited Ni-P layer was prepared,and itscryrtallization course was analysed.The results show that a number of in-terim phases Ni_xP_Y formed during and before Ni_3P compound formed.The ph-ases play a great role for increase in hardness of the layer.

关 键 词：镍磷非晶合金 电沉积 晶化 硬度 

分 类 号：TG139.8[一般工业技术—材料科学与工程]