磁性薄膜自发磁化强度的变分累计展开分析  

Analytical Study of Spontaneous Magnetization with Variational Cumulant Expansion in Magnetic Thin Film

作　　者：周亚非[1] 

机构地区：[1]渝西学院物理学与电子信息工程系,重庆永川402168

出　　处：《渝西学院学报（自然科学版）》2004年第4期18-20,共3页

基　　金：重庆市教委科学技术研究项目 (批准号 :0 3 12 0 2 )资助

摘　　要：利用变分累计展开方法 ,分析了Heisenberg磁性薄膜的自发磁化强度到三级累积展开 .结果表明 :自发磁化强度依赖于薄膜的层数 .在某一临界厚度以下 ,自发磁化强度随薄膜原子层数的减小而迅速减小 。The magnetic properties of quantum Heisenberg film is studied in variational cumulant expansion method. The spontaneous magnetization is calculated to the third order. For thicknesses below a critical thickness , the spontaneous magnetization depends on the number of atomic layers and decreases rapidly as the number of atomic layers is decreased. The results are consistent with experimental facts.

关 键 词：Heisenberg薄膜 自发磁化强度 变分累计展开 

分 类 号：O484.5[理学—固体物理]