掺Yb^3＋单包层和双包层光纤的研制与性能测试研究（二）  

作　　者：宁鼎[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十六研究所天津300220

出　　处：《光纤光缆传输技术》2004年第4期1-6,共6页

摘　　要：叙述了采用MCVD工艺加溶液掺杂法的工艺路线以及制作掺Yb^3+单包层和双包层光纤的设计思路、工艺技术和制作方法，并对所研制光纤的Yb^3+掺杂浓度、几何参数、光学传输参数和吸收系数等进行了测量、分析和讨论。

关 键 词：掺YB^3+ 双包层光纤 MCVD 溶液掺杂 掺杂浓度 光学传输 性能测试 加溶 工艺路线 研究 

分 类 号：TN248[电子电信—物理电子学] TN818